场发射扫描电子显微镜
型号: Ultra 55
位置: 六合特材公司
负责人:
设备描述
1．镜筒内置式In-Lens二次电子探测器和EsB探测器，样品室内AsB探测器和ET探测器
2．Oxford IE450X-Max80能谱仪（EDS）
3．IW700 波谱仪（WDS）
4．HKL Nordlys S 电子背散射衍射仪（EBSD）
5．Emitech SC7620喷金仪；CA7625喷碳仪
6．Buehler Vibromet 2 振动抛光机
应用领域
广泛应用于纳米材料、金属材料、复合材料、水泥和混凝土等研究及生物医学领域。
样品要求
1．测试样品要尽可能小且干燥无可挥发成分、无磁性，如有必须注明。多孔类与易潮解类样品请提前真空干燥处理；
2．请注明样品的导电性，对不导电样品通常需要喷涂（Au、C）处理，测试能谱的样品如不导电，则需注明喷Au或C；
3．禁止做在强电子束流下易分解、反应的样品；
4．若试样易燃、易爆、有毒，必须提示，以便采取相应的处理措施。
主要规格
1．分辨率：0.8 nm at 15 kV；1.6 nm at 1 kV；4.0nm@0.1 kV。放大倍数：12 - 900,000X (SE) 100 - 900,000X (BSE)；
2．样品移动最大范围指标：不小于120mm(X、Y方向)，50mm(Z方向)，-4～70°(倾斜)，360°(旋转)；
3．能谱分辨率优于127eV (MnKα处，计数率为20000cps)；谱峰漂移<1eV(MnKα处)。
4．电子背散射空间分辨率0.1微米，角分辨率0.5度。